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多功能原位高溫?zé)崤_(tái)是一種實(shí)驗(yàn)設(shè)備，主要用于在高溫環(huán)境下進(jìn)行各種實(shí)驗(yàn)。這種熱臺(tái)能夠提供精確的溫度控制，并且具有多種功能，例如可以用來(lái)研究物質(zhì)在高溫下的反應(yīng)、變化、合成等等。

退火爐是用于制造半導(dǎo)體元件的制程方法。該制程包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達(dá)到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑，使沉積的膜至密化，并改變生長(zhǎng)的膜的狀態(tài)。